全程水處理器是一種綜合性能較好的水處理器設(shè)備,可用于防止水垢、抑制腐蝕、殺菌滅藻等。其清洗方法通常有以下幾種:
物理清洗
- 反沖洗:這是較為常見的物理清洗方式。通過改變水流方向,使水從正常運行時的出口進入,從入口流出。強大的反向水流可以沖掉附著在設(shè)備內(nèi)部濾網(wǎng)、管道壁等部位的雜質(zhì)、顆粒物和部分水垢,一般在設(shè)備運行一段時間后定期進行。比如,對于一些用于循環(huán)冷卻水系統(tǒng)的全程水處理器,可根據(jù)水質(zhì)情況每 1-2 周進行一次反沖洗,每次反沖洗時間持續(xù) 5-10 分鐘。
- 機械刷洗:對于設(shè)備內(nèi)部一些難以通過反沖洗去除的頑固污漬、水垢等,可以使用專門的機械刷洗工具進行清理。例如,使用軟毛刷或尼龍刷等,對設(shè)備的濾網(wǎng)、換熱器表面等進行刷洗。在刷洗時要注意力度,避免損壞設(shè)備內(nèi)部的部件。這種方法一般在設(shè)備停機檢修時進行。
化學清洗
- 酸洗:當設(shè)備內(nèi)部結(jié)垢較為嚴重,特別是形成了碳酸鹽、硫酸鹽等水垢時,可采用酸洗的方法。常用的酸洗劑有鹽酸、檸檬酸、氨基磺酸等。例如,使用 2%-5% 濃度的鹽酸溶液,將其循環(huán)通過設(shè)備內(nèi)部,與水垢發(fā)生化學反應,使水垢溶解并去除。酸洗時間根據(jù)結(jié)垢程度而定,一般為 2-8 小時。酸洗后,需要用清水將設(shè)備內(nèi)部徹底沖洗干凈,直至排出的水呈中性。
- 堿洗:對于設(shè)備表面附著的油污、有機物等雜質(zhì),堿洗是一種有效的清洗方法。通常使用氫氧化鈉、碳酸鈉等堿性溶液,濃度一般在 3%-10% 左右。堿洗過程中,堿性溶液會使油污、有機物發(fā)生皂化反應或水解反應,從而使其溶解或分解。堿洗時間一般為 1-4 小時,然后同樣用清水沖洗至中性。
- 殺菌滅藻清洗:如果設(shè)備在運行過程中出現(xiàn)微生物滋生、藻類繁殖等問題,需要進行殺菌滅藻清洗。可使用氧化性殺菌劑如次氯酸鈉、二氧化氯等,或非氧化性殺菌劑如異噻唑啉酮等。將殺菌劑配制成一定濃度的溶液,注入設(shè)備中循環(huán)一段時間,一般為 1-2 小時,以殺滅微生物和藻類。然后再用清水沖洗干凈。
在進行化學清洗時,需要根據(jù)設(shè)備的材質(zhì)和污垢的類型選擇合適的化學藥劑,并嚴格控制清洗液的濃度、溫度和清洗時間,以避免對設(shè)備造成腐蝕或其他損壞。同時,清洗后的廢液需要進行妥善處理,以保護環(huán)境。
在線清洗
- 電子除垢清洗:一些全程水處理器配備了電子除垢裝置,通過向水中施加特定頻率和強度的電磁場,使水中的鈣、鎂等離子的結(jié)晶形態(tài)發(fā)生改變,難以形成堅硬的水垢,而是以松散的泥渣狀沉淀下來,從而達到除垢的目的。這種方法可以在設(shè)備正常運行過程中持續(xù)進行,不需要停機。
- 超聲波清洗:利用超聲波在水中產(chǎn)生的空化效應,使設(shè)備表面的污垢受到強烈的沖擊和振動而脫落。超聲波清洗可以在不拆卸設(shè)備的情況下進行,對設(shè)備內(nèi)部的復雜結(jié)構(gòu)和細小部件也能起到較好的清洗效果。不過,超聲波清洗設(shè)備的功率和頻率需要根據(jù)設(shè)備的大小和污垢的性質(zhì)進行調(diào)整。
在線清洗方法具有不影響設(shè)備正常運行、清洗效果好等優(yōu)點,但設(shè)備的投資和運行成本相對較高。在實際應用中,可根據(jù)具體情況選擇合適的清洗方法或多種方法相結(jié)合,以達到最佳的清洗效果,確保全程水處理器設(shè)備的穩(wěn)定運行和高效性能。